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UV紫外线光清洗技术原理

发布时间:2022-09-27 人气:768

UV紫外线光清洗技术原理
紫外光清洗
紫外光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质,经过光清洗后的材料表面可以达到”原子清洁度”。UV光源发射波长为185nm和254nm的光波,具有很高的能量,当这些光子作用到被清洗物体表面时,由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外光具有较强的吸收能力,并在吸收185nm波长的紫外光的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子,这就是所谓光敏作用。空气中的氧气分子在吸收了185nm波长的紫外光后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波长的紫外光同样具有强烈的吸收作用,臭氧又分解为原子氧和氧气。其中原子氧是极活泼的,在它作用下,物体表面上的碳和碳氢化合物的分解物可化合成可挥发的气体:二氧化碳和水蒸气等逸出表面,从而彻底清除了黏附在物体表面上的碳和有机污染物。

基本原理
紫外光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质,经过光清洗后的材料表面可以达到”原子清洁度”。UV光源发射波长为185nm和254nm的光波,具有很高的能量,当这些光子作用到被清洗物体表面时,由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外光具有较强的吸收能力,并在吸收185nm波长的紫外光的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子,这就是所谓光敏作用。空气中的氧气分子在吸收了185nm波长的紫外光后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波长的紫外光同样具有强烈的吸收作用,臭氧又分解为原子氧和氧气。其中原子氧是极活泼的,在它作用下,物体表面上的碳和碳氢化合物的分解物可化合成可挥发的气体:二氧化碳和水蒸气等逸出表面,从而彻底清除了黏附在物体表面上的碳和有机污染物。
清洗时,使基板治湿性向上。玻璃基板是以滚轮方式输送,上方装置低压水银灯产生紫外线照射。玻璃基板所累积紫外线能量愈多,其表面水接触愈小,成反比关系。

应用范围
紫外光清洗技术的应用主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法最为合适。
主要材料:ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和 带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。
可以去除污垢:有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。

   

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